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조세심판원 결정

쟁점물품을 반도체 제조공정의 주요 장비로 보아 제8516호(8%)가 아닌 제8486호(0%)로 분류하여야 한다는 청구주장의 당부

사건번호조심2026관0011
결정일2026-07-07
결과기각

쟁점

쟁점물품을 반도체 제조공정의 주요 장비로 보아 제8516호(8%)가 아닌 제8486호(0%)로 분류하여야 한다는 청구주장의 당부

결정요지

쟁점물품의 카탈로그에서 LSI(고밀도집적회로) 제조공정을 위한 고온화학 물질의 가열제어 및 금도금 용역, 전처리 용액, 세정액 등 다른 산업에 있어 다양한 화학물질의 가열제어에 사용할 수 있는 범용성 있는 물품이라고 명시됨

결정문 정보

청구번호조심 2026관0011 (2026.07.07)
세목관세
결정유형기각

주문

심판청구를 기각한다.

이유

1. 처분개요

가. 청구법인은 2024.9.26. OOO 소재 AAA(이하 "쟁점공급자"라 한다)로부터 BBB(이하 "쟁점물품"이라 한다)를 수입신고번호 OOO호로 수입신고하면서, 그 품목번호를 관세․통계통합품목분류표(이하 "HSK"라 한다) 제8516.80-0000호(관세율 8%, 이하 "제8516호"라 한다)로 수입신고하였고, 처분청은 이를 수리하였다.

나. 이후, 청구법인은 2025.9.25. 쟁점물품의 품목분류를 '전열용 저항체'가 분류되는 제8516호가 아닌 '기타의 마스크와 레티클의 제조용·수리용 기계와 기기'가 분류되는 HSK 제8486.40-1090호(WTO 양허관세율 0%, 이하 "제8486호"라 한다)로 보아 관세 OOO원, 부가가치세 OOO원 합계 OOO원을 경정청구하였으나, 처분청은 2025.11.20. 이를 거부(이하 "쟁점처분"이라 한다)하였다.

다. 청구법인은 이에 불복하여 2025.12.4. 심판청구를 제기하였다.

2. 청구법인 주장 및 처분청 의견

가. 청구법인 주장 (1) 쟁점물품은 제8486호로 분류되어야 한다. (가) 기능적 측면에서 쟁점물품의 화학액 온도 제어는 반도체 제조공정을 수행하기 위한 필수 장비로 HSK 제8486.40-1090로 분류되어야 한다. 쟁점물품은 반도체 제조공정 중 웨이퍼 세정(Cleaning), 식각(Etching), 박리(Stripping) 공정에 사용되는 고순도 화학액의 온도를 공정 조건에 맞게 정밀하게 제어․유지하기 위하여 설계․제작된 반도체 제조공정 주요 장비 중 일부이다. 반도체 제조공정 중 웨이퍼 세정․식각․박리 공정은 화학액의 화학적 반응을 이용하여 웨이퍼 표면을 처리하는 공정으로서 이 과정에서 화학액의 온도는 반응 속도, 균일성, 재현성 및 수율에 직접적인 영향을 미치는 핵심 공정 변수이다. 특히, 식각 공정의 경우 화학액의 온도가 공정 조건에서 벗어나는 경우 과식각 또는 미식각이 발생하고, 이는 웨이퍼 전면 불량으로 직결되어 공정 자체가 성립할 수 없게 된다. 이러한 공정(세정․식각․박리 공정)은 모두 반도체 제조에서 필수적인 웨이퍼 처리 단계들이며, 제8486.40호에 규정된 "웨이퍼의 세정․식각․박리 장치"의 기능 정의와 완전히 일치한다. 따라서, 쟁점물품은 기술적․기능적 기준을 모두 충족하므로 제8486호로 분류하여야 한다. (나) 형태적 측면에서는 쟁점물품은 웨이퍼 세정․식각 공정 수행에 필수적 구성요소로, 반도체 제조장비의 핵심 부품(Parts) 기능을 수행하므로 HSK 제8486.90-2040호로 분류되어야 한다. 쟁점물품은 웨이퍼 식각 공정에서 사용되는 식각액 공급 순환 계통에 인라인 구성품으로 반드시 반도체 장비 내부에 장착되어 특정 역할(약액 온도 제어)을 수행하도록 설계되었다. 이러한 형태적 특성은 반도체 제조장비의 부분품으로서의 요건을 충족하며, 기능적인 측면에서도 약액의 온도를 일정하게 유지해야만 공정 품질이 확보되는 점에서 장비 전체의 공정 수행에 필수적인 구성요소라고 볼 수 있다. 약액의 온도 안정성이 확보되지 않을 경우, 웨어퍼의 식각․세정 공정의 균일도와 패턴 품질이 저하되므로 쟁점물품은 반도체 제조장비의 정상 가동을 위해 필수불가결한 핵심 부품이다. (다) 쟁점물품은 반도체 제조공정을 위해 설계․제작된 장비이다. 쟁점물품은 화학액과 발열체가 직접 접촉하지 않는 석영 이중관 구조를 채택하고, 할로겐 램프에 의한 복사 가열 방식을 적용함으로써 화학액 오염을 원천적으로 차단하도록 설계되어, PID 제어 방식을 통해 ±0.1℃ 수준의 고정밀 온도 제어가 가능하도록 구성되어 있어 반도체 공정에서 요구되는 엄격한 공정 조건을 안정적으로 충족시킨다. 이와 같은 구조적․기능적 특성은 일반 산업용 가열기에서는 요구되지 않는 요소로서 쟁점물품이 반도체 제조공정이라는 특정 용도를 전제로 설계․제작된 공정 주요 장비임을 명확히 보여주는 것이다. (라) 제8486호는 반도체 제조공정에 전용 또는 주로 사용되는 기계 및 그 구성요소 전반을 포괄하는 규정이다. 제8486호는 웨이퍼를 직접 가공․처리하는 장비에 한정되지 아니하고, 반도체 제조공정에 전용 또는 주로 사용되는 기계 및 그 구성요소 전반을 포괄하나, 처분청은 웨이퍼 직접 처리 여부만을 기준으로 제8486호 적용을 전면 배제하였다. 이는 관세율표 문언과 체계, 그리고 반도체 제조공정의 실제 구조를 도외시한 판단으로 관세율표 해석 원칙을 명백히 오인한 것이다. (마) 웨이퍼를 직접 가공․처리하지 않아도 웨이퍼 세정 공정에서 화학 반응 조건을 형성․유지하는 필수 구성요소로 평가되어 제8486호로 분류된 바 있다. 웨이퍼 세정 설비에 장착되어 화학액을 일정 온도로 가열․유지하는 Heater Block은 인라인 구조, 할로겐 램프 가열 방식, 반도체 공정 주요 사용, 공정 조건 미형성 시 공정 불성립이라는 점을 근거로 범용 가열기가 아닌 반도체 제조장비의 부분품으로 HSK 제8486.90-2010호로 분류(품목분류과-106654, 2006.3.2.)하였다. 쟁점물품은 위 Heater Block과 동일하게 반도체 제조공정에 단독으로 사용되며, 공정 조건을 형성․유지하지 못할 경우 공정 자체가 성립할 수 없는 구조를 가지고 있다. (바) 일반적인 금도금․전처리․세정 공정에서 사용되는 가열장치는 공정 탱크 내부의 화학 용액을 직접 가열하나, 쟁점물품은 특정 공정 용액을 직접 처리하거나 가열하는 장치가 아니라, 공정 탱크 외부에 독립적으로 설치되어 가열된 화학액을 순환 공급함으로써 공정 전체의 온도 안정성을 확보하는 역할을 담당한다. 쟁점물품은 단일 공정을 직접 수행하는 장비가 아니라, 반도체 제조공정이 예정된 조건 하에서 성립·유지되기 위하여 필수적으로 요구되는 온도 조건을 형성하는 시스템 구성요소로서 기능한다. (사) 쟁점물품은 기술적 구조, 사용 목적, 정밀도, 오염 제어, 설치 방식 어느 측면에서도 제8516호에 해당될 수 없는 장치이다. 석영(Quartz) 이중관, 비접촉식 할로겐 램프 가열, PID ±0.3℃ 제어 등 반도체 공정용 장치 특유의 기술 사양을 충족하고 금속 발열체 기반의 제8516호와 구조적으로 완전히 상이하다. 따라서 쟁점물품은 제8486호로 분류되는 기술적․사실관계상 타당하고, 기술 구조, 공정 용도, 제조사 자료 및 장비 구성 특성을 종합하면, 기능적 측면에서는 HSK 제8486.40-1090호의 정의에 부합하고, 형태적 측면에서는 HSK 제8486.90-2040호의 부분품 기준에 합치되므로 쟁점물품은 제8486호로 분류되어야 한다. (2) 쟁점물품은 단순한 가열 기능을 수행하는 범용 장비가 아니다. (가) 처분청이 카탈로그상 용도 외 사용 가능성에 관한 추상적 문구만을 근거로 쟁점물품에 대하여 제8486호 적용을 배제한 것은 반도체 제조공정에 전용 또는 주로 사용되는지 여부를 중심으로 판단하도록 한 기존 분류 예규의 기준과 정면으로 배치되는 자의적 해석에 해당한다. 처분청은 쟁점공급자 카달로그에 기재된 "LSI(Large Scale Integration) 제조공정 외에도 금도금 용액, 전처리 용액, 세정액 등 다양한 화학물질의 가열에 사용할 수 있다"는 문구를 근거로 쟁점물품이 반도체 제조공정 외에 다른 산업에서도 사용 가능한 범용 장비라는 의견이나, 품목분류에 있어 "다른 용도로 사용 가능하다"는 점은 단순한 문언상의 가능성만으로는 족하지 아니하고 해당 물품이 실제로 그 용도로 사용되기에 적합한 객관적 구조, 기능 및 설치 방식을 갖추고 있는지 여부가 구체적으로 소명되어야 한다. 그런데 처분청은 ① 쟁점물품이 반도체 제조공정 외 산업에서 실제로 설치․운용된 구체적 사례, ② 해당 용도를 전제로 한 구조적 설계 사양, ③ 반도체 공정 전용 구조와 구별되는 객관적․기술적 근거 등은 전혀 제시하지 못하고 있다. 이는 결국 다른 산업 사용 가능성에 대한 실질적 소명이 없는 상태에서 판매 확대를 위해 활용 범위를 넓게 서술한 추상적․마케팅적 문구만을 근거로 제8486호 적용을 배제한 것이다. (나) 처분청은 쟁점물품이 화학액을 가열하는 기능을 수행한다는 이유로 범용 장치에 해당한다는 의견이나, 쟁점물품은 반도체 제조설비의 화학액 순환 계통에 인라인 방식으로 설치되어 공정 수행에 필요한 온도 조건을 실시간으로 형성․유지하는 장치로서 단순 가열 기능을 수행하는 일반 산업용 장치와는 본질적으로 구별된다. 특히 화학액의 온도는 반도체 식각 및 세정 공정에서 반응 속도 및 균일성을 결정하는 핵심 공정 변수로서, 해당 조건이 유지되지 않을 경우 공정 자체가 성립할 수 없다. (다) 처분청은 제품설명서의 '경고' 문구를 근거로 쟁점물품이 다양한 산업에서 사용 가능한 범용 장치라는 의견이나, 해당 경고문은 "의료용, 항공기 운반 설비 등 인명과 직결되는 기기로 사용하지 말 것"이라는 내용으로, 이는 특정 고위험 분야에서의 사용을 제한하는 안전상 주의사항에 해당한다. 이는 장치의 사용 범위를 확장하는 근거가 아니라, 오히려 해당 장치가 특정 용도 및 조건 하에서 사용되는 것을 전제로 설계된 제품임을 보여주는 자료로, 사용이 제한된다는 사실은 해당 물품이 다양한 산업에서 자유롭게 사용되는 범용 장치가 아니라, 특정 환경과 목적에 맞추어 설계된 장치임을 뒷받침하는 내용이다. (라) 또한, 처분청은 쟁점물품이 시스템 구성요소에 불과하다는 이유로 범용 장치로 보아야 한다는 의견이나. 반도체 제조공정 장비는 본질적으로 다수의 구성요소가 유기적으로 결합된 시스템 구조로 구성되며, 개별 구성요소가 단독으로 기능을 완결하지 않는 것은 해당 산업의 일반적인 특성에 해당한다. 특정 장치가 독립적으로 기능을 수행하지 않는다는 사정만으로 이를 범용 장치로 판단하는 것은 타당하지 않으며, 오히려 해당 장치가 전체 공정 내에서 수행하는 역할을 기준으로 판단하여야 한다. (마) 쟁점물품의 제조사 제품설명서에 따르면, 쟁점물품은 FRV-3000 및 OOO과 같은 설비에 적용되는 구성요소로 기재되어 있다. 위 설비는 반도체 제조장비에 결합되어 운용되는 온도제어 순환설비(칠러)로서, 반도체 제조공정에서 요구되는 정밀한 온도 조건을 형성․유지하기 위하여 사용되는 장비이며 단순한 온도조절 기능이 아니라 반도체 공정 조건을 형성하기 위한 설비임을 전제로 한다. 따라서 해당 설비는 단순한 범용 냉각장치가 아니라 반도체 제조공정의 수행을 위하여 필수적으로 편입되는 공정 구성요소에 해당되어, 사용 대상 설비가 특정되고, 그 용도가 반도체 제조공정 유지에 한정된다. (3) 처분청은 유사 반도체 제조장비에 대하여 제8486.90호로 품목분류하였다. 처분청은 반도체 제조공정에 사용되는 장비 및 그 구성요소의 품목분류에 있어 해당 물품이 웨이퍼를 직접 가공․처리하는지 여부에 한정하지 아니하고, 반도체 제조공정에 주로 사용되는지 여부, 공정 내 기능적 필수성, 구조적 전용성을 중심으로 아래 <표1>과 같이 판단하였다. <표1> 유사 반도체 제조장비의 품목분류 사례(제8486.90호) 구 분 품 명 HSK 주요 내용 품목분류2과-2372 (2017.2.9.) Heater Block 8486.90-4010 - Die Bonder 장비 내부에 고정 설치되어 웨이퍼 다이 접합 공정의 온도를 제어 - 웨이퍼를 직접 가공하는 장비는 아니나, 특정 반도체 제조 장비에 결합되어 온도 제어라는 핵심 공정 기능을 수행하는 필수 구성요소로 보아 반도체 제조장비에 주로 사용되는 부분품으로 분류 품목분류4과-1260 (2022.3.2.) Electrostatic Chuck(ESC) 8486.90-2030 - 식각 장비(Etcher)에 장착되어 웨이퍼를 정전력으로 고정 - 해당 물품이 웨이퍼 식각 공정의 성립을 위해 필수적인 기능을 수행하고, 반도체 제조 장비 외의 다른 산업에서는 사용 실태가 확인되지 않는다는 점을 고려하여 이를 반도체 제조 장비에 주로 사용되는 부분품으로 분류 품목분류4과-4251 (2025.9.30.) CMP Polishing Pad 8486.90-2090 - CMP 장비에 장착되어 웨이퍼 평탄화 공정에 직접 사용 - 반도체 제조공정에서만 사용되는 구조·용도를 갖춘 핵심 구성요소라고 봄 (4) 처분청이 쟁점물품과 유사한 물품이라고 제시한 제너레이터 등은 쟁점물품과 기능적 본질과 공정 등에서 상이한 물품이다. (가) 처분청이 언급한 서큘레이터(CIRCULATOR) 및 라디에이터(RADIATOR)는 그 기능, 설치 위치, 공정 내 역할에 있어 쟁점물품과 본질적으로 상이한 물품이다. 처분청은 개별 물품 간 실질적 비교 없이 단순히 '유사한 공정에 사용 된다'는 사정만으로 품목분류의 기존 결정을 삼는 것은 품목분류 판단 방식으로서 허용될 수 없으며, 개별 물품의 구조․기능․공정 내 역할을 달리함에도 불구하고 이를 동일 선상에서 원용한 것은 품목분류의 개별성 원칙에 부합하지 않는다. 특히 반도체 제조공정은 세정․식각․박리․가열․이송․제어 등 다수의 공정 장비 및 그 구성요소가 유기적으로 결합되어 하나의 공정 체계를 형성하는 고도의 집적 산업으로서, 개별 장비 또는 구성요소의 기능과 역할은 공정 전체와의 관계 속에서 판단되어야 한다. (나) 제너레이터는 장비에 전력을 공급하는 에너지 공급 장치로서 반도체 제조공정의 화학적 반응 조건 형성에 직접 관여하지 않는다. 쟁점물품은 화학액의 온도를 형성․유지함으로써 반도체 식각 및 세정 공정의 반응 조건을 직접적으로 좌우하는 장치이나, 제너레이터의 전력 공급은 공정 외부의 에너지 제공에 불과하다. (5) 처분청은 관세율표의 문언과 체계, 그리고 관세율표 해설을 오인하고 있다. 관세율표 제8486호는 반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer), 반도체 디바이스, 전자집적회로 및 평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기를 포괄적으로 규정하고 있으며, 그 하위 소호인 제8486.40호는 '이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기'를 포섭하는 잔여적 분류 항목에 해당한다. 관세율표 해설서 (D)항에서 예시로 열거된 마스크(mask) 및 레티클(reticle) 제조·수리용 기계는 제8486.40호에 포함될 수 있는 여러 유형 중 일부에 불과하며, 이를 들어 제8486.40호의 적용 대상을 마스크․레티클 관련 장비로 한정하는 것은 해설의 문언과 취지에 반하는 축소 해석이다. 처분청은 쟁점물품의 카탈로그를 근거로 쟁점물품은 센서, 컨트롤러, 펌프 등과 결합되어야만 정밀한 온도 제어가 가능하므로, 쟁점물품 자체는 단순히 제어 신호를 받아 화학액을 가열하는 "히터"에 불과하다는 의견이나, 반도체 제조공정에 사용되는 장비 및 그 구성요소는 대부분 센서, 컨트롤러, 펌프, 필터 등과 유기적으로 결합된 시스템 형태로 운용되며, 개별 구성요소가 단독으로 공정 기능을 완결하지 않는다. 즉, 정밀한 온도 유지가 시스템 전체의 협업 결과라는 사실은 쟁점물품이 범용 장비임을 의미하는 것이 아니라, 반도체 제조공정 장비가 본질적으로 시스템 단위로 구성된다는 산업적 특성을 반영하는 것 이다. 또한 처분청은 관세율표 제8486호 중 제8486.40-1090호를 "기타의 마스크 및 레티클 제조·수리용 기계"로 한정 해석하여, 쟁점물품은 해당 소호에 분류될 수 없다는 의견이나, 관세율표 해설서에 따르면 8486.40호는 '이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기'를 포섭하는 잔여적 분류 항목으로서 마스크·레티클 제조·수리용 기계는 그 예시 중 일부에 불과하다. 관세율표 제8486호는 반도체 제조에 "전용 또는 주로 사용되는 기계․기기 및 그 부분품"을 포함하는 규정으로 단순히 특정 장비를 한정적으로 열거한 규정이 아니라 용도 기준에 따라 적용 범위가 결정되는 포괄적 규정에 해당한다.

나. 처분청 의견 (1) 쟁점물품은 관세율표 제8486호의 용어에 부합하지 않으므로 제8486호로 분류할 수 없다. (가) 관세율표 제8486호의 용어는 '반도체 보울이나 웨이퍼․반도체 디바이스․전자집적회로․평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기 및 제84류 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품'으로 명시되어 있다. 그리고 '제84류 주 제11호 다목'에서는 "제8486호에는 다음에 전용되거나 주로 사용되는 기계를 분류한다."라고 하면서 '1) 마스크와 레티클의 제조·수리, 2) 반도체디바이스나 전자집적회로의 조립, 3) 보울, 웨이퍼, 반도체디바이스, 전자집적회로와 평판디스플레이의 권양, 취급, 적하나 양하'를 열거하고 있다. 쟁점물품은 온도 유지를 위한 가열 기능이 주된 기능으로 조립이나 권양·취급 장비로는 볼 수 없고 청구법인도 마스크 및 레티클의 제조·수리 기계라고 주장하고 있으므로 이에 한정하여 살펴보면, 청구법인은 쟁점물품이 웨이퍼 세정·박리·식각에 사용된다고 주장하면서도, 한편으로는 제8486호 후단의 용어를 확장해석하여 마스크 및 레티클 뿐만 아니라 제8486호의 물품을 모두 포함하여야 한다고 주장하고 있다. 그러나, 관세율표 10단위 분류는 상위 소호(6단위 및 8단위)의 용어에 따라 그 범위가 한정되며, 통칙 제6호에 따라 해당 소호의 용어와 관련 소호의 주에 따라 분류되어야 한다. 관세율표 10단위에서 "기타"로 규정된 항목은 상위 소호에서 열거된 물품에 해당하지 아니하는 나머지를 포괄하기 위한 잔여적 분류에 불과하므로, 이를 근거로 상위 소호의 용어 범위를 넘어서는 물품까지 포함하여야 한다는 청구법인의 주장은 관세율표의 체계에 반한다. 또한 제8486호의 해설서에서 '마스크(mask)와 레티클(reticle)의 제조·수리용 기계'의 예시로 든 물품은 포토마스크 제조용 기기(photoplotter), 마스크와 레티클 수리를 위한 이온 밀링기(ion milling machine) 등 레티클이나 마스크의 형성․가공․수정과 같이 반도체 회로 패턴 자체를 직접적으로 형성하거나 변경하는 공정에 사용되는 장비들이다. 이에 비해 쟁점물품은 웨이퍼 세정 등 공정에 사용되는 고순도 화학액의 온도를 조절하는 기능을 수행하는 장치로서, 회로 패턴의 형성이나 가공 자체에 직접 관여하는 장비와는 그 기능과 역할이 구별된다. 따라서 관세율표 해설서의 예시 기기들과 쟁점물품은 공정 내에서 수행하는 기능과 역할의 측면에서 근본적인 차이가 존재하므로, 동일한 범주로 보기 어렵다. <표2> HSK 제8486.40-1090호와 쟁점물품의 비교표 구분 HSK 제8486.40-1090호 쟁점물품 처리 대상 마스크, 레티클 화학액 기능 제조․수리 가열 공정 역할 제조 공정 수행 공정 보조 작용 대상 반도체 제품 공정 유체 쟁점물품이 관세율표 제8486호의 용어에 부합하려면 쟁점물품의 수입신고 당시의 구조나 기능, 특성에 비추어 볼 때 반도체 웨이퍼 등의 제조에 전적으로 사용되거나 물품의 객관적인 특성상 반도체 웨이퍼 등 제조에 사용하기에 적합하도록 제작되어 있고, 쟁점물품을 반도체 웨이퍼 등 이외의 다른 공작물 가공에 사용하고자 하는 경우에는 별도의 구조적인 장치를 필요로 하는 등 반도체 웨이퍼 등의 제조에 사용되는 경우와 차별이 있어야 한다(대법원 2014.10.30. 선고 2011두23535 판결, 같은 뜻임). 청구법인은 경정청구 시 제출한 품목분류 정정 신청서에서 쟁점물품에 대하여 반도체 공정 전용의 완성기계로서 범용 전열기기와는 애초에 기능과 용도가 본질적으로 다르다고 주장하나, 제품 카탈로그에는 "LSI(고밀도집적회로) 제조공정에서 사용될 뿐만 아니라, 금도금 용액, 전처리 용액, 세정액 등 다른 산업에 있어 다양한 화학물질의 가열에 사용할 수 있는 범용성이 있는 물품"이라고 명시되어 있다. 용도설명서의

3. 사용용도에서도 "1) 반도체 웨이퍼 세정 공정, 2) 박리 및 식각 공정"에서 사용될 뿐만 아니라 반도체 제조공정이 아닌 "3) 디스플레이 제조, 4) 고순도 화학액 온도 유지가 필수적인 특수 공정"에서도 사용할 수 있는 것으로 분명하게 명시하고 있어 반도체 공정 전용의 기계라는 청구법인의 주장과 다르다. 또한 청구법인이 제출한 제품 카탈로그상 적용 예(Application Example)를 보면 쟁점물품(Heating Unit)은 저수조(Processing Bath)에 설치된 온도센서에서 측정한 온도값을 컨트롤러(Controller)에서 판단하여 쟁점물품에 제어신호를 보내줌으로써 화학액의 온도를 제어하는 구조로 설명되어 있다. <제품 카탈로그상 적용 예(Application Example)> ◯◯◯ 즉, 쟁점물품 자체가 정밀한 온도 유지 기능을 하는 것이 아니라, 쟁점물품과 더불어 센서, 컨트롤러, 펌프, 펌프 컨트롤러가 모두 구성되었을 경우에 정밀한 온도 유지를 할 수 있으며, 쟁점물품의 역할은 제어신호를 받아 화학액을 단순 가열하는 히터임을 알 수 있다. (나) 청구법인이 제출한 제품설명서에서는 쟁점물품 자체의 구조나 기능보다는 제조사의 순환 냉각·가열 장치 및 온도 제어 기술 전반에 대해 설명하고 있다. 이 설명서에서는 해당 장치의 기능에 대해 할로겐램프를 이용한 유체 가열 및 온도 제어, 순환 펌프를 통한 유체 공급, PID 제어에 의한 온도 제어 기술 등 일관되게 '온도 조절 기능'만으로 설명하고 있을 뿐, 반도체 소자나 웨이퍼에 직접 작용하여 반도체 제조공정을 수행하는 장치라는 내용은 전혀 언급하고 있지 않다. <표3> 청구법인이 제출한 제품설명서(일부 발췌) ◯◯◯ 오히려 3면 '경고'란의 "이 장치를 의료용, 항공기 운반 설비 등 인명과 직결되는 기기로 사용하지 마십시오."라는 문구로 비추어 볼 때, 이 장치는 반도체 뿐만 아니라 타 산업에서도 사용할 수 있는 범용 온도조절 장치로 보는 것이 타당하다. (다) 청구법인은 쟁점물품이 관세율표 제8486호의 표현을 만족하고 구체적으로는 HSK 제8486.40-1090호 '기타의 마스크와 레티클의 제조용·수리용 기계와 기기' 또는 제8486.90-2040호의 '반도체 제조장비의 부분품'에 해당한다고 주장하나, 관세율표 제84류 주 제11호 다목에서 규정하는 마스크 및 레티클 제조용·수리용 기계란 마스크 또는 레티클에 직접 작용하여 회로 패턴을 형성하거나 수정하는 기능을 수행하는 기계를 의미하는데, 쟁점물품은 마스크나 레티클에 직접 작용하는 기계가 아니라, 반도체 웨이퍼 세정·박리·식각 공정에 사용되는 화학액을 가열하여 일정 온도를 유지하기 위한 장치로서 회로 패턴의 형성 등과는 기능적으로 관련이 없어 HSK 제8486.40-1090호에 분류할 수 없다. 또한 반도체 세정·식각·박리 장치를 직접 구성하는 부분품이 아니라 그 외부에 위치한 화학액 공급라인에 설치되는 장비로 반도체 제조장비를 직접 구성하는 부분품에도 해당하지 않으므로 HSK 제8486.90-2040호로 분류할 수도 없다. 제8486호의 용어에서 정하고 있는 물품은 단순히 반도체 제조공정에 사용되는 기계가 아니라 특정물품의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계만을 의미한다. 그러나, 쟁점물품 제조사의 카탈로그 및 기능 용도설명서 등을 종합하여 보면 쟁점물품은 반도체 전용이 아닌 범용성 있는 장비로 판단함이 타당하며 제8486호의 "전용되거나 주로 사용" 요건을 갖추지 못하였으므로 제8486호로 분류할 수 없다. (라) 청구법인이 유사품목으로 제시한 관세율표 제8486호 품목분류 사례인 폴리싱 패드(Polishing Pad, 웨이퍼 표면을 연마하여 평평하게 하는 도구)와 정전 척(ESC, 정전기로 웨이퍼를 고정하는 장치) 등은 챔버 내에서 반도체 제조공정을 직접 수행하기 때문에 제8486호로 분류되는데, 쟁점물품은 상기 품목들과 달리 챔버 외부에 위치하며, 공정에 직접 사용되는 것이 아니라 단순히 화학액을 가열하는 장치이므로 그 기능과 구조에 명백한 차이가 있다. 또한 관세평가분류원은 챔버 외부 가스배관에 위치하고 반도체 제조에 사용되는 반응 가스의 정밀한 온도 유지 및 가열에 사용되는 히팅 자켓(Heating Jacket)을 HSK 제8516.80-0000호(전열용 저항체)로 분류한 사례가 있고, 챔버 외부에서 챔버 내부 전극에 케이블로 연결하여 챔버 내부에 플라즈마 형성을 위한 고주파를 발생시키는 장치(RF Generator) 및 정합 장치(RF Matching Network)가 2024년 WCO 제73차 HS위원회에서 관세청 측 의견과 같이 관세율표 제8543호(기타 전기기기)로 최종 결정되어 "품목분류 적용기준에 관한 고시"(관세청 고시 제2525-19호, 2025.4.1. 시행)로 규정된 것을 고려할 때 "동일․유사 품목의 관세청 결정 및 국제 분류 사례와 불일치"하다는 청구법인의 주장은 사실과 다르다. 따라서 쟁점물품은 범용성이 있는 물품으로 관세율표 제8486호의 용어인 '반도체 디바이스 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계'의 표현을 만족하지 않아 관세율표 제8486호에 해당하지 않으며, 청구법인이 주장하는 HSK 제8486.40-1090호나 HSK 제8486.90-2040호에도 해당하지 않으므로 청구법인의 주장은 이유 없다. (2) 쟁점처분은 절차상 하자 없는 적법한 처분이며 재량권 남용 주장은 타당하지 않다. (가) 청구법인은 쟁점처분에 대하여 처분청이 "쟁점물품이 반도체 제조공정에서 수행하는 기능을 전혀 검토하지 않은 채 관세율표 제8516호(일반 전열기기)로 단정한 결정이며 이는 물품의 기능․구조․용도에 따라 품목분류해야 한다는 기본 원칙을 무시한 것으로, 사실관계 오인에 기반한 위법․부당한 판단"이라고 주장하나, 청구법인은 쟁점물품의 품목번호가 관세율표 제8516호에서 관세율표 제8486호로 변경됨을 전제로 경정청구하였으며, 처분청은 청구법인이 제출한 제품 카탈로그 및 용도설명서 등을 검토한 후 경정청구를 거부하는 처분을 하였다. 경정청구는 「관세법」 제38조의3 제2항에 따라 '신고납부한 세액이 과다한 것을 알게 되었을 때 세액에 대한 경정을 세관장에게 청구'하는 제도로 과다납부된 세액이 존재하는지 여부, 즉 관세율․과세표준의 오적용 여부가 본질적인 판단 요건이다. 그러나, 청구법인이 제출한 자료만으로는 명확하게 어느 호에 분류되어야 하는지를 특정하기에는 어려움이 있었고, 당초 수입신고한 관세율표 제8516호와 사후 검토된 관세율표 제8419호 중 어느 호로 분류하더라도 쟁점물품의 관세율이 동일하게 8%로 적용되어 과다납부한 세액이 없다는 판단을 전제로 쟁점처분을 한 것으로 청구법인의 주장은 모두 사실이 아니다. (나) 청구법인은 처분청이 쟁점처분 당시에 거부 사유로 기입한 "관세율표 제8516호 검토 필요, 제8486호로 판단 시 품목분류 사전심사 필요"라는 문구에 대하여 "처분사유가 구체적이고 명확해야 한다는 「행정절차법」 제23조 의 기본 원칙을 위반한 것"이라고 주장하나, 현재 경정청구 및 그 결정 통지는 관세정보시스템을 통해 처리되고 있으며, 거부 처분 통지 시 그 사유를 "최대 100바이트(한글 최대 30자)"로만 입력할 수 있다. 따라서 처분청은 제한된 글자수 내에서 거부 사유를 구체적이면서도 간략하게 기재한 것이며, 청구법인은 문의사항 발생 시 전화문의 등의 방법으로 처분청에게 질의할 수 있고 실제로 다른 품목의 경정청구 거부 처분에 대하여 처분담당자에게 전화로 문의하여 처분청이 해당 처분의 취지와 재접수 등의 방법을 설명한 사실도 있다. (3) 수입물품의 품목분류에 실제 사용 용도는 고려 대상이 아니다. 청구법인은 처분청이 쟁점물품이 반도체 제조공정 외 산업에서 실제로 사용된 구체적 사례를 제시하지 못하였다거나, 반도체 제조사가 쟁점물품을 전용으로 채택하여 사용한다는 등의 수입 후 실제 사용 용도를 근거로 관세율표 제8486호에 해당한다고 주장하나, 수입물품에 대한 품목분류를 함에 있어 수입물품에 대한 납세의무자의 주관적인 용도나 수입 후의 실제 사용 용도를 고려할 것은 아니다(대법원 2012.1.12. 선고 2011두13491 판결, 대법원 2022.4.14. 선고 2017두53767 판결 등, 같은 뜻임). (4) 쟁점물품은 HS 통칙 제1호 및 제6호에 따라 HSK 제8419.89-9010호에 분류된다. 관세율표 제16부 주 제2호 가목에서는 기계의 부분품이 관세율표 제16부(제84류 또는 제85류)의 하나의 호에 해당하는 물품이라면, 각 해당 호로 분류하고 주 제2호 나목에서는 그 밖의 부분품으로서 특정의 기계나 동일한 호에 해당하는 기계들에 전용되거나 주로 사용하는 부분품이라면 그 기계와 함께 동일한 호에 분류하도록 규정하고 있으므로, 쟁점물품이 제84류나 제85류의 특정한 호에 포함되는지의 여부를 우선적으로 검토하여야 한다. 관세율표 제8419호에는 "가열·조리·배소(焙燒)·증류·정류·살균·저온살균·증기가열·건조·증발·응축·냉각과 그 밖의 온도 변화에 따른 방법으로 재료를 처리하는 기계ㆍ설비ㆍ실험실 장치[전기가열식(제8514호의 노(爐)와 오븐과 그 밖의 장비는 제외한다)]"가 분류되고, 제8419.89호에는 '그 밖의 기기'가 세분류된다. 같은 호 해설서에서 "이 호에는 단순히 온도의 변화만을 일으키게 하기 위해서나 온도의 변화[예: 가열·조리·배소(焙燒)·증류·정류·살균·증기·증발·응축·냉각 공정]의 결과로 재료가 변형되도록 하기 위하여 재료(고체·액체·기체)를 가열이나 냉각공정에 놓도록 제작된 기계와 설비를 포함한다. …(중략)… 이들은 여러 가지의 열원(석탄·오일·가스·증기·전기 등)에 의하여 가열되나 전기 가열식으로서 제8516호에 분류하는 즉시식 물가열기의 경우는 예외이다."라고 설명하고 있으며, '(I) 가열용·냉각용 시설과 기계' 그룹에서 "이 그룹에는 많은 산업분야에서 가열·끓임(boiling)·조리·농축·증발·기화·냉각 등에 의한 재료의 간단한 처리에 일반적으로 사용하는 설비가 해당된다."라고 명시하고 있다. 쟁점물품은 외부의 제어신호에 따라 화학액을 가열하여 일정 온도를 유지하도록 처리하는 기계로 그 자체로 제8419호의 용어를 충족하고, 반도체 제조장비의 부분품도 제16부 주 제2호의 가목을 우선 적용해야 하므로 제8419호에 품목분류됨이 타당하다. 처분청은 2025.12.31. 쟁점물품에 대한 정확한 품목분류를 위해 관세평가분류원에 질의한 바 있으며, 관세평가분류원은 제품 카탈로그 및 용도설명서 등의 자료를 근거로 판단했을 때 "쟁점물품은 내부 열원인 할로겐램프로 화학액을 가열하여 재료를 처리하는 가열기이므로 HS 통칙 제1호 및 제6호에 따라 제8419.89-9010호 '가열기'에 분류될 것"이라고 회신하였다(품목분류4과-35, 2026.1.9.). 또한 관세평가분류원은 2025년 11월과 12월에 쟁점물품과 동일한 제조사의 유사물품인 Chemical Circulator(모델명 OOO)를 HSK 제8419.89-9090호(가열·냉각·증발·응축기 등이 분류되는 기타 기기)로 분류하고, Radiator(순환냉각가열장치에 장착되어 반도체 제조공정에 사용되는 화학액의 열을 외부로 방출하는 장치)를 HSK 제8419.50-9000호(기타 열교환기)로 분류한 바 있다. 따라서 청구법인이 처분청에 제출한 자료를 근거로 종합적으로 검토하였을 때 쟁점물품은 HS 통칙 제1호 및 제6호에 따라 HSK 제8419.89-9010호에 분류됨이 타당하며 쟁점물품이 "관세율표 제8486호에 분류되는 반도체 제조공정 전용 기계"라는 청구법인의 주장은 이유 없다.

3. 심리 및 판단

가. 쟁점 쟁점물품을 '반도체 제조공정의 주요 장비'로 보아 제8516호(8%)가 아닌 제8486호(0%)로 분류하여야 한다는 청구주장의 당부

나. 관련 법령 등 : <별지> 기재

다. 사실관계 및 판단 (1) 청구법인은 2024.9.26. 쟁점공급자로부터 쟁점물품(규격 : BBB OOO)을 수입신고번호 OOO호로 수입신고하면서, 그 품목번호를 HSK 제8516.80-0000호(관세율 8%)로 수입신고하여 처분청은 이를 수리하였으나, 청구법인은 2025.9.24. 이 건 수입신고와 관련하여, 세번을 HSK 제8516.80-0000호에서 HSK 제8486.40-1090(관세율 0%)호로 정정하여 줄 것을 요구한 품목분류 정정신청서를 처분청에 제출하였다. 처분청은 2025.11.20. 위 품목분류 정정신청을 거부하였고, 청구법인은 2025.12.4. 쟁점물품이 HSK 제8486.40-1090 또는 제8486.90-2010호(관세율 0%)로 분류되어야 한다며 심판청구를 제기하였고, 처분청은 답변서에서 쟁점물품은 HSK 제8419.89-9010호(관세율 8%)로 분류되어야 한다고 답변하였다. 또한, 처분청이 수입신고 시 세번(OOO)을 HSK 제8419.89-9010호로 정정하지 않은 사유는 관세율이 동일하여 세액경정 사유가 없어서였다고 답변하였다. (2) 청구법인 및 처분청이 제출한 심리자료 등에 따르면 다음의 사실이 나타난다. (가) 청구법인은 기능용도 설명서를 아래와 같이 제출하였다. <쟁점물품 기능용도 설명서(일부 발췌)> ◯◯◯ (나) 청구법인은 쟁점물품의 기술 카탈로그를 아래와 같이 제출하였다. ◯◯◯ (다) 청구법인은 OOO / OOO 순환가열․냉각장치 공식 취급설명서의 주요 내용을 아래와 같이 제출하였다. <OOO / OOO 취급설명서(일부 발췌)> ◯◯◯ (라) 청구법인은 제8516호의 전열기기와 쟁점물품과의 기술적 차이를 아래와 같이 제시하였다. <일반 전열기기와 쟁점물품과의 기술적 차이 비교> ◯◯◯ (마) 처분청은 쟁점물품과 유사한 물품을 제8419호로 품목분류 한 사례를 아래 <표4>와 같이 제출하였다. <표4> 쟁점물품의 유사물품 품목분류 사례 ◯◯◯ (바) 처분청은 쟁점물품과 동일한 기능을 수행하는 Liquid Heater Set를 아래 <표5>의 기재내용과 같이 온도 조절을 통해 재료를 처리하는 장치로 보아 제8419.89호로 분류한 해외 품목분류 사례를 제출하였다. <표5> 쟁점물품과 유사물품 해외 품목분류 사례 ◯◯◯ (사) 처분청은 2025.12.31. 쟁점물품의 품목분류에 대해 관세평가분류원에 질의를 하였고, 관세평가분류원은 2026.1.9. 아래 <표6>과 같이 답변하였다. <표6> 품목분류에 대한 질의 회신(2026.1.9.) ◯◯◯ (3) 이상의 사실관계 및 관련 법령 등을 종합하여 살피건대, 청구법인은 쟁점물품은 반도체 제조공정 중 웨이퍼 세정(Cleaning), 식각(Etching), 박리(Stripping) 공정에 사용되는 고순도 화학액의 온도를 공정 조건에 맞게 정밀하게 제어․유지하기 위한 반도체 제조공정 장비로 제8486호로 분류하여야 한다고 주장하나, 관세율표 제8486호의 용어는 '반도체 보울이나 웨이퍼․반도체 디바이스․전자집적회로․평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기 및 제84류 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품'이나, 쟁점물품은 반도체 제조 설비의 외부에 부착되어 고순도 화학액의 온도를 제어․유지하는 개별 기계로, 세정․식각․박리 장치를 직접 구성하는 부분품은 아닌 점, 쟁점물품은 내부 열원인 할로겐 램프로 약액(Chemical)을 가열하는 히터로 온도의 변화(가열)로 재료를 처리하는 기계인 가열기로 보이는 점, 쟁점물품의 카탈로그에서 LSI(고밀도집적회로) 제조 공정을 위한 고온 화학 물질의 가열 제어 및 금 도금 용액, 전처리 용액, 세정액 등 다른 산업에 있어 다양한 화학물질의 가열․제어에 사용할 수 있는 범용성 있는 물품이라고 명시되어 있는 점 등을 고려할 때, 쟁점물품을 반도체 제조장비로 보아 제8486호로 분류하여야 한다는 청구주장은 받아들이기 어려운 것으로 판단된다.

4. 결론 이 건 심판청구는 심리결과 청구주장이 이유 없으므로 「관세법」제131조 및 제128조 제1항 제2호에 의하여 주문과 같이 결정한다. <별지> 관련 법령 등 (1) 관세법 제50조(세율 적용의 우선순위) ① 기본세율과 잠정세율은 별표 관세율표에 따르되, 잠정세율을 기본세율에 우선하여 적용한다. ② 제49조 제3호의 세율은 다음 각 호의 순서에 따라 별표 관세율표의 세율에 우선하여 적용한다.

1. 제51조, 제57조, 제63조, 제65조, 제67조의2, 제68조 및 제69조 제2호에 따른 세율

2. 제73조 및 제74조에 따른 세율

3. 제69조 제1호ㆍ제3호ㆍ제4호, 제71조 및 제72조에 따른 세율

4. 제76조에 따른 세율 ③ 제2항에도 불구하고 제2항 제2호의 세율은 기본세율, 잠정세율, 제2항 제3호 및 제4호의 세율보다 낮은 경우에만 우선하여 적용하고, 제2항 제3호의 세율 중 제71조에 따른 세율은 제2항 제4호의 세율보다 낮은 경우에만 우선하여 적용한다. 다만, 제73조에 따라 국제기구와의 관세에 관한 협상에서 국내외의 가격차에 상당하는 율로 양허(讓許)하거나 국내시장 개방과 함께 기본세율보다 높은 세율로 양허한 농림축산물 중 대통령령으로 정하는 물품에 대하여 양허한 세율(시장접근물량에 대한 양허세율을 포함한다)은 기본세율 및 잠정세율에 우선하여 적용한다. 제84조(품목분류체계의 수정) 기획재정부장관은 「통일상품명 및 부호체계에 관한 국제협약」에 따른 관세협력이사회의 권고 또는 결정이나 새로운 상품의 개발 등으로 별표 관세율표 또는 제73조 및 제76조에 따라 대통령령으로 정한 품목분류를 변경할 필요가 있는 경우 그 세율이 변경되지 아니하는 경우에는 대통령령으로 정하는 바에 따라 새로 품목분류를 하거나 다시 품목분류를 할 수 있다. 제85조(품목분류의 적용기준 등) ① 기획재정부장관은 대통령령으로 정하는 바에 따라 품목분류를 적용하는 데에 필요한 기준을 정할 수 있다. 제86조(특정물품에 적용될 품목분류의 사전심사) ① 물품을 수출입하려는 자, 수출할 물품의 제조자 및 「관세사법」에 따른 관세사ㆍ관세법인 또는 통관취급법인(이하 "관세사등"이라 한다)은 제241조 제1항에 따른 수출입신고를 하기 전에 대통령령으로 정하는 서류를 갖추어 관세청장에게 해당 물품에 적용될 별표 관세율표상의 품목분류를 미리 심사하여 줄 것을 신청할 수 있다. ③ 제2항에 따라 통지를 받은 자는 통지받은 날부터 30일 이내에 대통령령으로 정하는 서류를 갖추어 관세청장에게 재심사를 신청할 수 있다. 이 경우 관세청장은 해당 물품에 적용될 품목분류를 재심사하여 대통령령으로 정하는 기간 이내에 이를 신청인에게 통지하여야 하며, 제출자료의 미비 등으로 품목분류를 심사하기 곤란한 경우에는 그 뜻을 통지하여야 한다.

별표

관세율표(제50조 관련) 관세율표의 해석에 관한 통칙 관세율표의 품목분류는 다음 원칙에 따른다.

1. 이 표의 부, 류 및 절의 표제는 오로지 참조를 위하여 규정한 것이며, 법적인 목적상의 품목분류는 각 호의 용어 및 관련 부 또는 류의 주에 의하여 결정하되, 이러한 각 호 또는 주에서 따로 정하지 아니한 경우에는 이 통칙 제2호 내지 제7호에서 규정하는 바에 따른다.

6. 법적인 목적상 어느 호 중 소호의 품목분류는 동일한 수준의 소호들만을 서로 비교할 수 있다는 점을 조건으로 그 소호의 용어와 관련 소호의 주에 따라 결정되며, 상기 제 통칙을 준용한다. 또한 이 통칙에서 문맥상 달리 규정한 경우를 제외하고 관련 부 및 류의 주도 적용한다. (2) 관세법 시행령 제98조(품목분류표 등) ① 기획재정부장관은 「통일상품명 및 부호체계에 관한 국제협약」(이하 이 조, 제98조의2 및 제99조에서 "협약"이라 한다) 제3조 제3항에 따라 수출입물품의 신속한 통관, 통계파악 등을 위하여 협약 및 법 별표 관세율표를 기초로 하여 품목을 세분한 관세ㆍ통계통합품목분류표(이하 이 조에서 "품목분류표"라 한다)를 고시할 수 있다. 제99조(품목분류의 적용기준) ② 기획재정부장관은 관세협력이사회가 협약에 따라 권고한 통일상품명 및 부호체계의 품목분류에 관한 사항을 관세청장으로 하여금 고시하게 할 수 있다. 이 경우 관세청장은 고시할 때 기획재정부장관의 승인을 받아야 한다. (3) 관세율표 해설서 제16부 기계류ㆍ전기기기와 이들의 부분품, 녹음기ㆍ음성재생기ㆍ텔레비전의 영상과 음향의 기록기ㆍ재생기와 이들의 부분품ㆍ부속품 주:

1. (생략)

2. 기계의 부분품(제8484호ㆍ제8544호ㆍ제8545호ㆍ제8546호ㆍ제8547호의 물품의 부분품은 제외한다)은 이 부의 주 제1호, 제84류의 주 제1호, 제85류의 주 제1호에 규정한 것 외에는 다음 각 목에서 정하는 바에 따라 분류한다.

가. 제84류나 제85류 중 어느 특정한 호(제8409호ㆍ제8431호ㆍ제8448호ㆍ제8466호ㆍ제8473호ㆍ제8487호ㆍ제8503호ㆍ제8522호ㆍ제8529호ㆍ제8538호ㆍ제8548호는 제외한다)에 포함되는 물품인 부분품은 어떠한 경우라도 각각 해당 호로 분류한다.

나. 그 밖의 부분품으로서 특정한 기계나 동일한 호로 분류되는 여러 종류의 기계(제8479호나 제8543호의 기계를 포함한다)에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 그 기계가 속하는 호나 경우에 따라 제8409호ㆍ제8431호ㆍ제8448호ㆍ제8466호ㆍ제8473호ㆍ제8503호ㆍ제8522호ㆍ제8529호ㆍ제8538호로 분류한다. 다만, 주로 제8517호와 제8525호부터 제8528호까지의 물품에 공통적으로 사용되는 부분품은 제8517호로 분류하고, 제8524호의 물품에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 제8529호에 분류한다.

다. (생략) 3.~6. (생략) 제84류 원자로·보일러·기계류와 이들의 부분품 주: 1.~10. (생략)

11.

가. 제85류의 주 제12호 가목과 나목의 "반도체디바이스"와 "전자집적회로"의 표현은 이 주와 제8486호에서도 적용된다. 다만 이 주와 제8486호의 목적에 따라 "반도체디바이스"는 감광성 반도체디바이스와 발광다이오드(엘이디)를 포함한다.

나. 이 주와 제8486호의 목적상 "평판디스플레이의 제조"는 기판을 평판으로 제조하는 것을 포함한다. "평판디스플레이의 제조"는 유리 제조나 평판에 인쇄회로기판이나 그 밖의 전자부품을 조립하는 것은 포함하지 않는다. "평판디스플레이"는 음극선관 기술을 포함하지 않는다.

다. 제8486호에는 다음에 전용되거나 주로 사용되는 기계를 분류한다. 1) 마스크와 레티클(reticle)의 제조·수리 2) 반도체디바이스나 전자집적회로의 조립 3) 보울(boule), 웨이퍼(wafer), 반도체디바이스, 전자집적회로와 평판디스플레이의 권양(捲楊), 취급, 적하(積荷)나 양하(蘘荷)

라. 제16부의 주 제1호와 제84류의 주 제1호의 규정에 따라 적용될 호가 정하여지는 경우를 제외하고, 제8486호의 표현을 만족하는 기계는 이 표의 다른 호로 분류하지 않으며, 제8486호로 분류한다. □ 제8531호 - 가열ㆍ조리ㆍ배소(焙燒)ㆍ증류ㆍ정류ㆍ살균ㆍ저온살균ㆍ증기가열ㆍ건조ㆍ증발ㆍ응축ㆍ냉각과 그 밖의 온도 변화에 따른 방법으로 재료를 처리하는 기계ㆍ설비ㆍ실험실 장치[전기가열식(제8514호의 노(爐)와 오븐과 그 밖의 장비는 제외한다), 실험실용을 포함하며 일반적으로 가정용으로 사용하는 것은 제외한다]와 전기가열식이 아닌 즉시식이나 저장식 물 가열기 - 즉시식이나 저장식 물 가열기(비전기식으로 한정한다) 8419.11 - 가스식인 즉시식 물 가열기 8419.12 - 태양열 물 가열기 8419.19 - 기타 8419.20 - 내과용ㆍ외과용ㆍ실험실용 살균기 - 건조기 8419.33 - 동결건조기ㆍ냉동건조 장치와 분무건조기 8419.34 - 기타(농산물용으로 한정한다) 8419.35 - 기타(목재용ㆍ제지펄프용ㆍ종이용ㆍ판지용으로 한정한다) 8419.39 - 기타 8419.40 - 증류기나 정류기 8419.50 - 열교환기 8419.60 - 기체 액화용 기기 - 그 밖의 기기 8419.81 - 뜨거운 음료 제조용이나 음식물의 조리용이나 가열용 8419.89 - 기타 8419.90 - 부분품 (생략) 이 호에는 단순히 온도의 변화만을 일으키게 하기 위해서나 온도의 변화[예: 가열ㆍ조리ㆍ배소(焙燒)ㆍ증류ㆍ정류ㆍ살균ㆍ증기ㆍ증발ㆍ응축ㆍ냉각 공정]의 결과로 재료가 변형되도록 하기 위하여 재료(고체ㆍ액체ㆍ기체)를 가열이나 냉각공정에 놓도록 제작된 기계와 설비를 포함한다. 그러나 이 호에는 가열이나 냉각이 비록 필수적인 것이라 할지라도 그 기계나 설비의 주요한 기계적 기능의 수행에 대하여 단지 부차적인 기능이 되는 기계와 설비는 제외한다. 예: 비스킷 등의 초콜릿 피복(被覆)기와 콘체(conche)(제8438호)ㆍ세탁기(제8450호나 제8451호)ㆍ역청질의 노면(路面)재료를 뿌리고 다지는 기계(제8479호) 이 호에 분류하는 기계류와 설비는 기계장치를 결합할 수도 있고, 결합되지 않는 경우도 있다. 이들은 여러 가지의 열원(석탄․오일․가스․증기․전기 등)에 의하여 가열되나 전기 가열식으로서 제8516호에 분류하는 즉시식 물가열기의 경우는 예외이다. 이 호에는 본 해설 뒷 절에서 언급한 즉시식 물가열기와 저장식 물가열기를 제외하고는 비가정용(non-domestic)기기만을 분류한다. 이 호에는 다음에 열거한 바와 같이 매우 광범위한 기계와 설비를 분류한다. (I) 가열용․냉각용 시설과 기계 (A) 여러 가지의 가열․냉각용의 용기와 통 등 기계장치를 갖추고 있으나 직접이나 간접의 가열수단을 갖추지 않은 용기는 명백하게 다른 호에 열거된 기계용으로 설계된 것이 아닌 한 제8479호에 분류한다. 저온 살균기를 포함하는 가열용기의 그룹은 때로는 감압 하에서 작동되며 식품이나 음료제품(밀크ㆍ버터ㆍ포도주ㆍ맥주 등)으로부터 소정의 온도로 유해한 미생물을 제거하는데 사용한다. (B) 열교환장치 : 열류(熱流)(고온가스ㆍ증기나 고온액체)와 저온의 유체(流體)가 평행한 통로를 엷은 금속벽을 격하고 보통 반대방향으로 흘러 한쪽은 냉각되고 다른 한쪽은 가열되는 장치. 이러한 장치에는 대체로 다음의 세 가지 형이 있다. (생략) 위의 여러 가지의 기기는 주로 산업용의 것이지만, 전기가열식이 아닌 즉시식 물가열기와 저장식 물가열기(태양열 온수기를 포함한다)는 가정용인지에 상관없이 이 호에 분류하고 전기가열식의 것은 제외한다(제8516호). (생략) □ 제8486호 - 반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품 8486.10 - 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer) 제조용 기계와 기기 8486.20 – 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기 8486.30 - 평판디스플레이 제조용 기계와 기기 8486.40 - 이 류의 주 제11호다목에서 특정한 기계와 기기 8486.90 - 부분품과 부속품 이 호에는 반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체 디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용하는 종류의 기계와 장치를 분류한다. 그러나 이 호에는 측정, 검사, 화학분석 등의 기계와 기기는 제외한다(제90류). (A) 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer) 제조용 기계와 기기를 분류한다. (생략) (B) 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기 (생략) (C) 평판디스플레이 제조용 기계와 기기 (생략) (D) 이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기 이 그룹에는 다음 용도에 사용하는 종류의 것으로서, 전용되거나 주로 사용하는 기계와 기기를 포함한다. 예를 들면, (1) 마스크(mask)와 레티클(reticle)의 제조용이나 수리용의 기계 (2) 반도체 디바이스나 집적회로 조립용 기기 (3) 보울, 웨이퍼(wafer), 반도체 디바이스, 전자집적회로와 평판디스플레이의 권양(捲楊), 취급, 양하(楊荷)와 적하(積荷)용의 기기 (E) 부분품과 부속품 부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.

출처

조세심판원 결정문 · 사건번호 조심2026관0011
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